干法刻蚀机半导体刻蚀设备，刻蚀机工厂

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干法刻蚀机半导体刻蚀设备，刻蚀机工厂

产品型号：IBE350
产品代码：
产品价格：350000
计量单位：台
折扣率： 0
最后更新：2025-09-22
关注度：2538
生产企业：四川超迈智能装备有限公司

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产品详细介绍IBE350干法刻蚀设备
刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。
设备尺寸：1200*1500*1800mm。
极限真空：优于≤8.0×10-5Pa。
样品尺寸：6英寸向下兼容。
刻蚀类型：物理刻蚀。
刻蚀气体：Ar、O2。
刻蚀气体流量：0~100sccm。
离子源类型：考夫曼直流离子源，角度可调。

四川超迈智能装备有限公司

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